Обзор посвящен проблеме получения особо чистых материалов для микроэлектроники. Обсуждена необходимость применения новых методов финишной очистки веществ. Изложены принципы очистки материалов с помощью электропереноса, плавки во взвешенном состоянии, ионной сепарации и селективной лазерной фотоионизации. Приведены данные по изучению возможности применения указанных методов с целью глубокой очистки веществ.
Большое внимание уделено вопросам конкретной реализации описываемых методов очистки для промышленного использования.
В продаже
Хочу купить
сейчас этого издания книги в продаже нет
попробуйте поискать другие издания этого произведения при помощи ссылок ниже
или оставьте объявление о покупке или продаже