Изложены основы различных химических и физико-химических методов обработки поверхности полупроводников. Описаны методы химико-механического, химико-динамического и плазмохимического травления и полирования монокристаллических подложек из кремния, германия и соединений А3В5, а также химические и электрохимические методики локального травления полупроводников, препарирования кристаллов и эпитаксиальных структур. Систематизированы методы межоперационной и финишной очистки полупроводников от различных загрязнений.
Для инженеров-технологов, занимающихся разработкой и производством полупроводниковых микроприборов и интегральных микросхем.
В продаже
Хочу купить
сейчас этого издания книги в продаже нет
попробуйте поискать другие издания этого произведения при помощи ссылок ниже
или оставьте объявление о покупке или продаже