Дан обзор основных направлений развития различного типа оборудования для осаждения пленок испарением в вакууме, включающего аппаратуру для получения структур с точностью слоев по толщине 0.1 ... 1 нм и степенью неравномерности покрытий по толщине менее 1%, для выращивания пленок сложного стехиометрического состава и структур с чередующимися слоями из различных тугоплавких и диэлектрических материалов, а также для нанесения многослойных покрытий (до 33 слоев). Рассмотрены характеристики процесса осаждения и возможности аналитко-технического комплекса напылительного оборудования.
В продаже
Хочу купить
сейчас этого издания книги в продаже нет
попробуйте поискать другие издания этого произведения при помощи ссылок ниже
или оставьте объявление о покупке или продаже