В монографии систематизированы данные по импульсному отжигу полупроводниковых материалов, в основном по отжигу имплантированных ионами слоев наносекундными, миллисекундными импульсами и сканирующими лучами. Основное внимание уделено отжигу радиационных дефектов и кристаллизации разупорядоченных слоев, активации и перераспределению примеси. Приводятся типовые расчеты тепловых полей, их релаксации и описание техники импульсных отжигов. Обсуждаются дискуссионные вопросы о влиянии атермических факторов, выделены нерешенные проблемы, приведены примеры практического использования импульсных обработок.
Монография является введением в новую быстро развивающуюся область - ионно-импульсную модификацию материалов. Она рассчитана на специалистов - физиков и инженеров, занимающихся проблемами твердотельной электроники.
В продаже
Хочу купить
сейчас этого издания книги в продаже нет
попробуйте поискать другие издания этого произведения при помощи ссылок ниже
или оставьте объявление о покупке или продаже