Изложен процесс фотолитографии в производстве изделий полупроводниковой электроники и микроэлектроники, описаны методы изготовления фотошаблонов и основное оптикомехани-ческое оборудование для этих целей, а также контрольно-измерительные приборы разработки народного предприятия "Карл Цейсе йена" (ГДР) для оценки характеристик фотошаблонов. Приведены основные соотношения классической оптики применительно к технике изготовления фотошаблонов и фотолитографии и инструментальные погрешности при изготовлении фотошаблонов.
Книга рассчитана на специалистов, занимающихся микро-фотогравировкой при разработке и производстве полупроводниковых приборов, микросхем и печатных схем, а также на студентов соответствующих вузов.
В продаже
Хочу купить
сейчас этого издания книги в продаже нет
попробуйте поискать другие издания этого произведения при помощи ссылок ниже
или оставьте объявление о покупке или продаже
